CHINESE JOURNAL OF ENERGETIC MATERIALS
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铝-氧化铜复合薄膜化学反应性能
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国防科技重点实验室基金资助(9140C3701020901)


Chemical Reaction Property of Al/CuO Multilayer Films
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    摘要:

    用磁控溅射的方法制备了铝-氧化铜复合薄膜,采用差热分析(DSC)方法研究了其化学反应性能。研究结果表明: 铝-氧化铜复合薄膜在一定的条件下,可以发生氧化还原反应,化学反应热为ΔH=-1197.5 kJ·mol-1,与标准状态下的ΔH0=-1203.8 kJ·mol-1十分接近。用Kissinger方法计算了第二步反应的活化能为565.146 kJ·mol-1,说明在无外界刺激的情况下,薄膜材料可以稳定存在。理论推导出,反应可以达到的最高温度是2573 ℃(即铜的沸点),薄膜间的化学反应分两步进行。

    Abstract:

    Al/CuO multilayer films were deposited with magnetron sputtering process and analysed with differential scanning calorimetry (DSC). Results show that the reduction-oxidation may happen. The chemical reaction heat is about 1197.5 kJ·mol-1. The activation energy of the second reaction calculated by Kissinger equation is about 565.146 kJ·mol-1. Because of the high activation energy, Al/CuO multilayer films can be conserved for a long time. The process of the reaction between films is composed of two steps and the highest temperature of the reaction is 2573 ℃.temperature of the reaction is 2573 ℃.

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朱朋,沈瑞琪,叶迎华,等.铝-氧化铜复合薄膜化学反应性能[J].含能材料, 2010, 18(4):427-430. DOI:10.3969/j. issn.1006-9941.2010.04.016.
ZHU Peng, SHEN Rui-qi, YE Ying-hua, et al. Chemical Reaction Property of Al/CuO Multilayer Films[J]. Chinese Journal of Energetic Materials, 2010, 18(4):427-430. DOI:10.3969/j. issn.1006-9941.2010.04.016.

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  • 收稿日期: 2009-11-26
  • 最后修改日期: 2010-04-02
  • 录用日期: 2010-04-12
  • 在线发布日期: 2012-02-22
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